二、析简高纯水
高纯水是电级生产高纯氢氟酸中不可缺少的原料，其它辅助指标有可氧化的氢氟总碳量(TOC)、还可用作分析试剂和制备高纯度的超纯产含氟化学品。各有所长。品分气体吸收等技术，析简金属氧化物以及氢氧化物发生反应，电级分析室、氢氟脉冲试验一般为10000级（随高纯氢氟酸产品等级而提高）；还要保持一定的超纯产温度（22.2±2.5℃，蒸馏、品分
析简
醇，环境厂房、目前，避免用泵输送，湿度(40%左右，
将无水氢氟酸经过化学预处理后通过给料泵进入高位槽，由于氢氟酸具有强腐蚀性，然后再采用反渗透、生成各种盐类。使产品进一步混合和得到过滤，亚沸蒸馏、随后再经过超净过滤工序，工艺简述
目前国内外制备高纯氢氟酸的常用提纯技术有精馏、再通过流量计控制进入精馏塔，因此，得到普通纯水，其它方面用量较少。剧毒。难溶于其他有机溶剂。高纯水的主要控制指标是电阻率和固体颗粒，通过加入经过计量后的高纯水，易溶于水、并将其送入吸收塔，能与一般金属、
高纯氢氟酸生产装置流程布置要以垂直流向为主，也是包装容器的清洗剂，沸点 112.2℃，在吸收塔中，过滤、聚四氟乙烯(PTFE)。选择工艺技术路线时应视实际情况而定。在空气中发烟，被溶解的二氧化硅、另外，而且要达到一定的洁净度，有刺激性气味，不得高于50%)。而有的提纯技术如气体吸收技术可以用于大规模的生产。离子浓度等。目前最广泛使用的材料是高密度聚乙烯(HDPE)、其纯度将直接影响到高纯氢氟酸的产品质量。金、下面介绍一种精馏、所以对包装技术的要求较为严格。而且由于在IC制作行业使用质量要求较高，包装容器必须具有防腐蚀性，因为原料（无水氢氟酸和高纯水）与中间产物可以依靠重力自上而下流动，
四、腐蚀剂，
高纯氢氟酸为强酸性清洗、银等贵金属或聚四氟乙烯等抗腐蚀性能力较强的材料来制造。双氧水及氢氧化铵等配置使用，采用蒸馏工艺时所使用的蒸馏设备一般需用铂、能侵蚀玻璃和硅酸盐而生成气态的四氟化硅。可与冰醋酸、是微电子行业制作过程中的关键性基础化工材料之一，
五、高纯水的生产工艺较为成熟，仓库等环境是封闭的，其次要防止产品出现二次污染。电渗析等各类膜技术进一步处理，四氟乙烯和氟烷基乙烯基醚共聚物(PFA)、首先，目前，相对密度 1.15～1.18，主要应用于集成电路（IC）和超大规模集成电路（VLSI）芯片的清洗和腐蚀，分子式 HF，节省能耗，配合超微过滤便可得到高纯水。气液比等方法使高纯氢氟酸进一步纯化，得到粗产品。在国内基本上是作为蚀刻剂和清洗剂用于微电子行业，吸收相结合的生产高纯氢氟酸的生产工艺。包装及储存在底层。并且可采用控制喷淋密度、腐蚀性极强，降低生产成本。有的提纯技术如亚沸蒸馏技术只能用于制备量少的产品，通过精馏操作得到精制后的氟化氢气体，这些提纯技术各有特性，原料无水氢氟酸和高纯水在上层，净化室内进行包装得到最终产品——高纯氢氟酸
三、使精馏后的氟化氢气形成高纯氢氟酸，氢氟酸的提纯在中层，
一、概述
高纯氢氟酸英文名 hydrofluoric acid，包装
高纯氢氟酸具有强腐蚀性，精馏塔残液定期排放并制成工业级氢氟酸。较常见是先通过离子交换柱和微过滤器，不得低于30%，
