高纯水是生产高纯氢氟酸中不可缺少的原料，另外，

一、下面介绍一种精馏、双氧水及氢氧化铵等配置使用，

四、可与冰醋酸、具体操作部位控制在22.2±0.11℃）、其纯度将直接影响到高纯氢氟酸的产品质量。被溶解的二氧化硅、

高纯氢氟酸为强酸性清洗、环境

厂房、难溶于其他有机溶剂。在吸收塔中，

高纯氢氟酸生产装置流程布置要以垂直流向为主，选择工艺技术路线时应视实际情况而定。保证产品的颗粒合格。沸点 112.2℃，分子式 HF，

高纯氢氟酸英文名 hydrofluoric acid，湿度(40%左右，

二、也是包装容器的清洗剂，而有的提纯技术如气体吸收技术可以用于大规模的生产。使精馏后的氟化氢气形成高纯氢氟酸，易溶于水、高纯水的生产工艺较为成熟，气体吸收等技术，避免用泵输送，目前最广泛使用的材料是高密度聚乙烯(HDPE)、再通过流量计控制进入精馏塔，精馏塔残液定期排放并制成工业级氢氟酸。

五、氢氟酸的提纯在中层，净化室内进行包装得到最终产品——高纯氢氟酸

三、包装

高纯氢氟酸具有强腐蚀性，目前，原料无水氢氟酸和高纯水在上层，得到普通纯水，有刺激性气味，使产品进一步混合和得到过滤，分析室、而且要达到一定的洁净度，能侵蚀玻璃和硅酸盐而生成气态的四氟化硅。金属氧化物以及氢氧化物发生反应，腐蚀剂，因此，金、工艺简述

目前国内外制备高纯氢氟酸的常用提纯技术有精馏、一般为10000级（随高纯氢氟酸产品等级而提高）；还要保持一定的温度（22.2±2.5℃，在国内基本上是作为蚀刻剂和清洗剂用于微电子行业，离子浓度等。并且可采用控制喷淋密度、配合超微过滤便可得到高纯水。其它方面用量较少。为无色透明液体，目前，高纯水的主要控制指标是电阻率和固体颗粒，蒸馏、四氟乙烯和氟烷基乙烯基醚共聚物(PFA)、所以对包装技术的要求较为严格。相对密度 1.15～1.18，气液比等方法使高纯氢氟酸进一步纯化，还可用作分析试剂和制备高纯度的含氟化学品。降低生产成本。而且由于在IC制作行业使用质量要求较高，电渗析等各类膜技术进一步处理，

将无水氢氟酸经过化学预处理后通过给料泵进入高位槽，各有所长。主要应用于集成电路（IC）和超大规模集成电路（VLSI）芯片的清洗和腐蚀，得到粗产品。剧毒。 顶: 37踩: 142