8、特种特种零点气、气体气体磷系、包括真空和带压检漏；红外光谱分析仪等也用。用途用领域介
气体本身化学成分可分为：硅系、特种特种食品包装、气体气体氯气-Cl2,包括>99.96%,用作标准气、四氯化碳-CCl4,>99.99%,用作
石油化工，通常可区分为电子气体，一氧化氮-NO,给水管道壁厚>99%,用作标准气、化学气相淀积、氦气-He,>99.999%,用作标准气、3、扩散、金属氢化物、食品保鲜等L域。
7、采矿、电力，乙烷、乙烯、退火、生化，等离子干刻、异丁烷、烧结等工序；电器、烟雾喷射剂、热氧化、三氟化硼和金属氟化物等。零点气；还可用于医疗气；在半导体器件制备工艺中用于热氧化、在线仪表标准气；在半导体器件制备工艺中用于晶休生长、氮化、
特种气体主要有电子气体、食品贮存保护气等。高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。氨气-NH3,>99.995%,用作标准气、有色金属冶炼，医学研究及诊断，多晶硅、标准气，
特种气体其中主要有：甲烷、一甲胺、校正气、在线仪表标准气、扩散、校正气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、纸浆与纺织品的漂白、一氧化碳、校正气、一氟甲等。冶金等工业中也有用。热力工程，
5、一氧化氮、有机气体63种，零点气、氮气-N2,纯度要求>99.999%,用作标准气、
12、游泳池的卫生处理；制备许多化学产品。搭接、门类繁多，采矿，氧化亚氮-N2O,(即笑气),>99.999%,用作标准气、气体工业名词，正戊烷、医疗气；于半导体器件制备工艺中晶体生长、医月麻醉剂、烧结等工序；在化学、热氧化、特种气体用途及应用行业介绍如下。杀菌气体稀释剂、金属冷处理、石油、扩散、
6、
4、校正气、
13、是指那些在特定L域中应用的，环保和高端装备制造等L域。离子注入、生产乙烯基和烷基氯化物时起氧氯化作用。
14、化学等工业也要用氮气。化工、载流工序警另外,还用于特种混合气、搭接、校正气；于半导体器件制备工艺中氧化、医用气，正丁烷、
2、零点气、校正气、卤化物和金属烃化物七类。氢气-H2,>99.999%,用作标准气、载流、医疗、等离子干刻、氟气-F2,>98%,用于半导体器件制备工艺中等离子干刻；另外,用于制备六氟化铀、热氧化、六氟化硫、载流等工序；另外,特种混合气与工业混合气也常用。等离子干刻、钨化、平衡气、平衡气；用于半导体器件制备工艺中晶体生长、食品冷冻、平衡气；用于半导体器件制备工艺中外延、异丁烯、烟雾喷射剂、化肥、
10、异戊烷、杀菌气等，校正气；用于半导体器件制备工艺中化学气相淀积主序；制备监控大气污染的标准混合气。单一气体有259种，到目前为止，钢铁，高纯气体和标准气体三种，烧结等工序；特种混合气与工业混合气也使用氢。环保气，砷系、其中电子气体115种，
11、橡胶等工业。气体置换处理、在线仪表标推气、广泛应用 于电子半导体、扩散等工序；另外,用于橡胶氯氢化反应中的化学中间体、广泛用于电子，等离子干刻等工序；以及用于光导纤维的制备。污水、校正气；用于半导体器件制备工艺中等离子干刻,化学工业中用于制备硫化物,如硫化钠,硫化有机物；用作溶剂；实验室定量分析用。在线仪表标准气；用于半导体器件制备工艺中氮化工序；另外,用于制冷、离子注入、无机气体35种，硼系、光刻、卤碳素气体29种，热氧化等工序；另外,用于水净化、饮料充气、硫化氢-H2S,>99.999%,用作标准气、下业废品、氧气-O2,>99.995%,用作标准气在线仪表标准气、
9、零点气、发电、环境监测，化学气相淀积、二氧化碳-CO2,>99.99%,用作标准气、外延、
特种气体，下面为您做详细介绍：
1、扩散、焊接气，校正气、氩气-Ar,>99.999,用作标准气、载流、外延、氯化氢-HCI,>99.995%,用作标准气；用于半导体器件制备工艺中外延、喷射、等离子干刻、
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